Cible rotative en métal
Description du produit
Cible rotative en métal
Des champs magnétiques et électriques orthogonaux sont appliqués entre la cible de pulvérisation (cathode) et l'anode.Et remplissez le gaz inerte requis (généralement du gaz Ar) dans la chambre à vide poussé.Sous l'action d'un champ électrique, le gaz Ar est ionisé en ions positifs et en électrons.Une certaine haute tension négative est appliquée à la cible, les électrons émis par la cible sont affectés par le champ magnétique, la probabilité d'ionisation du gaz de travail augmente, un plasma haute densité se forme près de la cathode et les ions Ar sont affectés par la force de Lorentz.Accélérez ensuite pour voler vers la surface cible et bombardez la surface cible à grande vitesse, de sorte que les atomes pulvérisés sur la cible suivent le principe de conversion de l'impulsion, volent de la surface cible au substrat et déposent un film à haute énergie cinétique.
Afin d'améliorer davantage le taux d'utilisation du matériau cible, une cathode rotative avec une efficacité d'utilisation plus élevée est conçue, et un matériau cible tubulaire est utilisé pour le revêtement par pulvérisation.L'amélioration de l'équipement de pulvérisation nécessite que la cible passe d'une forme plate à une forme tubulaire, et le taux d'utilisation de la cible rotative tubulaire peut atteindre 70 %, ce qui résout en grande partie le problème de la faible utilisation de la cible plate.
| Nom des produits | Cible rotative en métal |
| Matériel | W, Mo, Ta, Ni, Ti, Zr, Cr, TiAl |
| Taille de vente chaude | ID-133/ OD-157x 3191mm ID-133/OD-157 X 3855mm ID-160/OD-180x1800mm Peut également être traité selon les exigences spécifiques des clients |
| MOQ | 3 pièces |
| Forfait | Caisse en bois contreplaqué |
Remarque : Nous produisons principalement diverses cibles métalliques, veuillez nous consulter pour plus de détails.
Application
Le revêtement par pulvérisation cathodique est un nouveau type de méthode de revêtement physique en phase vapeur.Comparé à la méthode de revêtement par évaporation, il présente des avantages évidents.
sous de nombreux aspects.Les cibles de pulvérisation métallique ont été utilisées dans de nombreux domaines.L'application principale de la cible rotative.
■Cellules solaires
■Verre architectural
■Verre automatique
■Semi-conducteur
■Télévision à écran plat, etc.
Informations sur la commande
Les demandes de renseignements et les commandes doivent inclure les informations suivantes :
☑Spécification cible ID × OD × L (mm).
☑Quantité Nécessaire.
☑Veuillez nous contacter pour des besoins plus particuliers.
