Cible de pulvérisation Titane 99.7

La cible en titane pur est largement utilisée dans l'industrie du revêtement sous vide PVD par pulvérisation ionique ou magnétron pour le revêtement PVD décoratif ou le revêtement fonctionnel.Nous pouvons vous fournir différentes puretés en fonction de vos différentes exigences.

Forme : Cible planaire/plaque/cylindrique.

Nous pouvons également fournir : TiAl, Cr, Ti, Zr, Al, Ni, Cu, Mo et autres cibles.

Ographyle ────

Matériau : titane pur, alliage de titane

MOQ : 5 pièces

Forme : cible ronde, cible de rabotage

Taille courante : Φ98*45mm, Φ100*40mm

Application : Revêtement pour machine PVD


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Détail du produit

Étiquettes de produit

Description du produit

Comment fonctionne la pulvérisation magnétron ?

La pulvérisation magnétron est une méthode de dépôt physique en phase vapeur (PVD), une classe de procédés de dépôt sous vide pour la production de films minces et de revêtements.
Le nom « pulvérisation magnétron » provient de l'utilisation de champs magnétiques pour contrôler le comportement des particules d'ions chargés dans le processus de dépôt par pulvérisation magnétron.Le processus nécessite une chambre à vide poussé pour créer un environnement à basse pression pour la pulvérisation.Le gaz qui comprend le plasma, typiquement du gaz argon, entre en premier dans la chambre.
Une tension négative élevée est appliquée entre la cathode et l'anode pour initier l'ionisation du gaz inerte.Les ions argon positifs du plasma entrent en collision avec le matériau cible chargé négativement.Chaque collision de particules à haute énergie peut provoquer l'éjection d'atomes de la surface cible dans l'environnement sous vide et leur propulsion sur la surface du substrat.

Comment fonctionne la pulvérisation magnétron

Un champ magnétique puissant produit une densité de plasma élevée en confinant les électrons près de la surface cible, en augmentant la vitesse de dépôt et en évitant d'endommager le substrat par bombardement ionique.La plupart des matériaux peuvent servir de cible pour le processus de pulvérisation car le système de pulvérisation magnétron ne nécessite pas de fusion ou d'évaporation du matériau source.

Paramètres du produit

Nom des produits Cible en titane pur
Noter Gr1
Pureté Plus 99,7%
Densité 4.5g/cm3
MOQ 5 pièces
Taille de vente chaude Φ95*40mm
Φ98*45mm
Φ100*40mm
Φ128*45mm
Application Revêtement pour machine PVD
Taille des stocks Φ98*45mm
Φ100*40mm
Autres cibles disponibles Molybdène (Mo)
Chrome(Cr)
TiAl
Cuivre(Cu)
Zirconium(Zr)

Application

Revêtement de circuits intégrés.
Affichages de panneaux de surface d'écrans plats et d'autres composants.
Décoration et revêtement de verre, etc.

Quels produits pouvons-nous produire

Cible plate en titane de haute pureté (99,9 %, 99,95 %, 99,99 %)
Connexion filetée standard pour une installation facile (M90, M80)
Production indépendante, prix abordable (qualité contrôlable)

Informations sur la commande

Les demandes de renseignements et les commandes doivent inclure les informations suivantes :

 Diamètre, hauteur (comme Φ100*40mm).
 Taille du filetage (comme M90 ​​* 2 mm).
 Quantité.
 Exigence de pureté.


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